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虽然，装机的过程已经不断的优化，已经很照顾小白了。但是，林棋还是觉得真尼玛的累人，所以，也打算回去继续让公司简化下一代盘古电脑的装机。不需要任何技术，不需要任何经验，都可以快速安装，才是王道。
忙完了之后，蒙欣噗嗤一笑，给林棋擦汗，说道“老公，辛苦了，看你累的。”
“累个屁，不累！”林棋一语双关，“不服的话，再战第二回合。”
由于憋了几个月，让林棋感觉自己比以往要神勇的多。
“去你的！”蒙欣白了他一眼，说道，“我还有忙不完的事情呢，以为我跟你一样，越老越不正经。”
……
国产05微米光刻机虽然已经研发成功，但是为了避免打草惊蛇，所以，暂时并未准备大张旗鼓的在新闻上进行宣传。
而且，在技术上也是遮遮掩掩，避免更快是被竞争对手了解技术方向。
反正现阶段，05微米的光刻机，也不需要对外出售。
现阶段，林蒙科技公司盈利模式，一方面是专利费，另外一方面则是光刻机。在专利数量方面，林蒙科技看起来不如新创业电子，一年也就注册一千多个国际专利，国内专利每年注册数量也不超过3000个。各种外观专利和一些应用专利，林蒙科技公司都不屑于注册，注册的基本上都是一些技术含量非常高的核心科技。
比如，现在的05微米光刻机，就不是模仿现在的光刻机厂商的主流技术，而是应用了90年代还未普及的新技术，沉浸式光刻技术。
用沉浸式光刻技术来做05微米的光刻机，也就是500纳米，有点杀鸡用了牛刀的感觉，但是如果现在不用的话，以后这些专利可能会被别人注册。所以，即使杀鸡用了牛刀，也先提前占坑！
光刻机在60年代开始问世，一开始是接触式光刻机、接近式光刻机，到70年代逐渐升级到了投影式光刻机，使得半导体工艺水平，逐渐开始代表人类最精密的加工工艺水平。到1980年代，光刻机再度升级到了步进式光刻机和步进式扫描光刻机。
每一次技术突破，都会使得半导体制造行业出现技术方向的选择。而选对的方向，自然是赢家通吃，而选错了方向，未来会因为技术落后，在利润更高的高端光刻机市场，失去自己的市场份额
在80年代，欧美日等等国家拥有超过百家以上的企业，都是具备能力研发和生产光刻机的，甚至，就连东德曾经也是光刻机市场上的供应商。
而进入90年代之后，大量的光刻机厂商开始掉队落后。欧洲的asl在90年代初，市场占有率也不是那么高，甚至技术也不是太先进。真正让这家公司爆发，则是后来2002年，率先采用了193n浸入式光刻机。一开始，193n浸入式光刻机并未真正的领先，一直到2004年，才是利用193n浸入式光刻机，做到了90纳米加工精度。随后，渐渐的突破65纳米、40纳米、28纳米，让非浸入式光刻机望尘莫及！
尤其是，28纳米时代，更是让非浸入式光刻机厂商绝望，甚至，已经放弃了继续研发投入，因为，不可能追赶浸入式光刻机。
也正是因为在关键性的技术节点上，选对了方向。所以，asl公司在21世纪初，独霸光刻机市场。
而佳能和尼康等等竞争对手，后来废了老大的劲，也很制造28纳米级别精度的光刻机，更何况，asl公司并未停止进步，反而不断将精度从28纳米之后，继续向20纳米、14纳米、12纳米、10纳米、7纳米，不断的提升。
其他的光刻机厂商，后来跟asl的差距逐渐被拉大到十年以上。除非等到asl专利过期，并且，未来工艺水平会长期停滞，否则，被技术差距被拉大到十年以上的程度的业界同行，基本没有可能抢回市场。
而这次推出的光刻机，虽然工艺水平仅达到05微米，给侵入式光刻机技术丢人了，但是，宁可杀鸡用牛刀，也不能让技术路线的主导权，被别的厂商占了坑。
侵入式光刻机问世后，一直是所有的对手都束手无策，只好眼睁睁的看着一家公司垄断市场。可见，这个技术路线在未来几十年来，代表着正确的方向。未来一直到5纳米时代，技术路线上都是在2002年的技术路线上修补。
甚至可预见的未来，纳米时代终结之前，这个技术是无敌的。只有纳米时代之后，进入理论上存在的皮米级工艺时代，可能才会换成其他的技术路径。但是1纳米还不知道什么时候能达到，更别说，终结了纳米之后的皮米时代，有生之年能不能来临还是未知数。
至少，在林棋和蒙欣所知的未来，人类对于材料的加工工艺精度，还未突破1纳米。
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第809章 主导行业发展趋势（）
9月中旬，林棋开始走访深圳的电子产业，了解新创业系的实力，以及上下游产业的具体实力。技术上，林棋帮不了什么忙，但是对于一些缺乏资金，却又有研发能力和进取心的企业，林棋则是慷慨的给予订单或投资，让一些企业能够快速的成长，不至于有理想却因为现实因素被击倒。
与此同时，林棋对新创业系的制造业，也是不断的要求主动涨工资，以及树立更好的企业文化。虽然不可能一下子就让国内的员工跟发达国家比公司，但是，工资增速比发达国家的员工更快，并未，未来是一年比一年好，至少心态上是会很积极乐观的。
这一系列的做法，更大程度上是为了留住人才。因为，林棋已经发现了，深圳已经出现了一堆海外友商过来挖角。
专门冲着新创业系和产业链上下游企业的技术骨干，见人就谈待遇问题，跳槽后涨五倍以上工资，国内合资厂干的好，今后还会帮助优秀人才移民发达国家，所以，很多人都经不起这种诱惑，跳槽到了外资企业。
不少被挖过去的人才，未必是有优质的项目做。仅仅是挖过去，做一些普通的工作适应，之后，才会随着外资企业投资国内的步伐，安排这些人更高水平的工作。
林棋对此争锋相对，灌输了一堆民族自豪感，民族企业的概念。既涨工资，又有一套文化宣传工作，虽然，不能说完全能制止跳槽。但什么都不做，每年要被挖走两三千人，而且，能被挖的基本上都不是普通工人，至少都是工程师程度。
挖的相当肉疼之后，新创业系国内的企业，自然也是不断的涨薪水。
未来几十年内，人类是离不开电子产品。无论任何一个行业，想要完全脱离电子产品进行加工生产，几乎是不现实的。即使是纯手工业者，个人消费也很难离开各类电子产品。
娱乐文化和互联网产业而言，未来更是脱离不了电子产品。电视机、电影放映机、手机……表面上，很多人看的是内容，但决定能拥有什么样的内容，能被多少人看到，更大程度上的取决于技术，也就是硬件水平。
也正是因此，娱乐文化行业，单纯的以作品为王，对于个人而言，可能是对的。一些企业，则是讲平台为王，当做常胜不败的秘诀。但是，更深层次的大势，则是技术推动，以核心技术，驱动人类主流的文化娱乐的方式。
所以，站在林棋的角度来看问题，迪士尼、华纳、索尼之类的企业，都不算的真正意义上的敌手。真正意义上的敌手，是未来科技发展的趋势！
能打败新创业系的失败，绝对不是亏十部八部电影，又或者精心准备的游戏大作扑街。更大程度的失败，无可挽回的失败，则是不能主导未来科技发展趋势。
对于电子产业而言，主导科技行业发展趋势，其实就是主导半导体工艺水平的提升。谁能持续不断的提升工艺水平，就能主导未来！
什么程度的加工精度，决定了什么水准的设计。并不是设计人员不给力，更关键的是，没那个工艺水平，设计出来的有卵用？
后世中国半导体行业培养出来的人才，被海外的同行更高价格挖走了，都纷纷成为中流砥柱。更大程度上，是因为中国半导体行业的工艺水平，限制了那些人才的发挥。留不住顶级人才，更大程度上，除了利润低之外，更大程度上就是工艺水平落后，一直生产不出让人自豪的产品。缺乏自豪感，又没有多少薪水，自然就留不住人。
半导体制造行业的工艺制程，不仅仅需要光刻机，其实更需要复杂的产业链配合。
就如晶圆硅片原料的加工，就包括对沙子的逐步提纯加工，沙子/石英经过脱氧提纯以后的得到含硅量25％的二氧化硅。氧化硅经由电弧炉提炼，盐酸氯化，并蒸馏后，得到纯度99％以上的晶体硅。
之后，纯度99％以上的多晶硅，作为原料，继续在单晶炉中采取高温成型，旋转拉伸做成圆形的晶棒。这种晶棒能够切成很多薄片，切出来的薄片才算晶圆。
以上晶圆硅片的生产过程，已经比传统的炼钢、烧玻璃之类的工艺，要复杂的多了。
虽然跟玻璃差不多，都是把沙子烧成更值钱的玩意。但是，硅晶圆的价值，却是远远超过绝大部分的玻璃。
甚至有些晶圆被加工出来的芯片成本，价值堪比同等重量的黄金。即使是最普通的半导体芯片，同等重量体积的价值，也是远远超过传统制造业。
就算仅仅是烧沙子的多晶硅、单晶硅，其实工艺水平也是非常讲究的。多晶硅就算了，对于设备和技术要求较低，主要是功耗大，只要有足够的能源，制造多晶硅并没有什么难度。通常多晶硅，要么就用来做太阳能发电之类比较低端的半导体部件。
至于更复杂的一点的芯片，根本不会用到多晶硅，只会用到纯度更高的单晶硅。因为，晶圆硅片的纯度，是极其影响后续的良品率的。工艺水品越高的晶圆加工，越不会在纯度低质量差的低端材料上进行无意义浪费，首先就会纯度最好的硅晶作为原料。
也正是因此，为了追求品质的稳定，一般后市高端的晶圆加工厂，不会进口来路不明、质量不知道是否靠谱的晶圆，只会选择长期稳定供货的厂商。
所以，后世的日本尽管在附加值更高的高端芯片加工领域，渐渐的开始落后了。但是作为最基本的硅晶圆材料，绝大部分的高端的芯片工厂，都是优先选择日本厂商供应的晶圆。
就拿中国半导体行业而言，自己生产的高端的晶圆很少，基本上是中国厂商，制造了全球绝大部分的多晶硅。出口多晶硅到日本，日本厂商拿多晶硅作为材料，提炼出更高级的单晶硅，之后，出口到包括中国在内的全世界的半导体芯片加工行业。
而美国可以光刻机从欧洲进口，晶圆从日本进口，却依然维持半导体产业领先地位，因为高端的技术标准和设计，是掌握在美国企业手中。再加上，美国政治和军事上强势，使得其不怕别人不卖产品和技术给他。
中国和美国不一样的，就是别人真的未必会卖技术给中国。因为，国际上，一堆的技术限制条款，针对最多的就是对中国各项技术、设备和产品的出口限制
而想要指望跟当初中苏友好时代，第一个五年计划那样，全套的引进技术和设备，包教包会，一次性学会很多产业的研发设计、技术标准制定、工人培养、设备制造，这几乎是不可能的事情了。
做梦想要用钱买到核心技术，也是太过于天真浪漫。实际上，如果只想要买不想要自己学和自己造，那么永远是不能掌握核心技术的。因为，核心技术不是一锤子买卖，更关键的是一整套工业体系，能够自我完善，自我升级，持续的遇到问题和解决问题。而不是买一套现成的工厂流水线和一套设备，就算是掌握了技术了。。。
以晶圆加工生产而言，就可以分成7个独立的生产区域：扩散（theral press）、光刻（pht… lithgraphy）、刻蚀（eth）、离子注入（in iplant）、薄膜生长（dieletri depsitin）、抛光（p）、金属化（etaliatin）。这7个主要的生产区和相关步骤以及测量等都是晶圆洁净厂房进行的。生产区都放置有若干种半导体设备，满足不同的需要。例如在光刻区，除了光刻机之外，还会有配套的涂胶/显影和测量设备。
光刻机虽然是技术含量最高的一件设备，但是其他的任何一项工艺，都需要大量配套的设备。
为了分散风险，以及扶持产业链的上下游发展。不少的核心设备，比如刻蚀机、离子注入机等等比光刻机难度更低一些的设备，则直接通过技术转让和项目外包的方式，扶持了国内的几家科研机构专门做这方面的业务。
另外，像衬底（硅片/蓝宝石/gaas等）、光刻胶、电子气体、溅射靶材、p材料、掩膜版、电镀液、封装基板、引线框架、键合丝、塑封材料等等，也都是扶持相关供应商。这些产业整体规模虽然不大，但是毛利润很高，只要能获取订单，那么，都堪称是暴利。因此，即使是技术要求高，不断需要投入研发。
第810章 国产光刻机巨头的成长（）
993年9月，0。5微米工艺制程的国产光刻机研发成功，并且，已经一开始小规模的推广。当然了，一开始仅有新创业半导体公司和骊山半导体公司，两家公司各自购买了一台。这倒不是因为0。5微米光刻机昂贵的问题，更关键的是，0。5微米的光刻机的产能还是比较慢的。宣布研发成功时，一共三台，一台是内部继续改进使用，一台卖给了骊山半导体，一台卖给了新创业半导体。
之后，预计两个月能生产一台0。5微米的光刻机，一年能生产台。想要提升生产速度，则是需要时间，相关产业渐渐跟上了发展，能更高效率的供应零部件。
四年前，也是林蒙科技公司，在微米光刻机项目上，填补了国内的空白。
在一开始，国产的微米光刻机，也并不比进口的光刻机便宜，每台售价亿人民币，大致上价值500万美元一台。加上其他的配套设备，微米工艺级的芯片工厂，投入高达2�